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5nm工艺!国产半导体设备再次取得突破
发布时间:2022-10-06 04:17:27 来源:leyu乐鱼体育在线登录 作者:leyu乐鱼全站App下载

  在芯片生产制造行业,半导体设备是必不可少的,除了大家熟悉的光刻机,还包括清洗机、离子注入机、抛光机、清洗机等等半导体设备都是这个市场的重要组成部分。

  大家只知道ASML这家半导体设备公司制造的光刻机世界领先,可以生产7nm及以下的EUV光刻机。

  但其实国产半导体设备也有很大的布局力度,并且再次传来了突破的好消息。这次国产半导体设备有怎样的突破进展呢?国产半导体设备市场又具备怎样的潜力?

  芯片制造是一个非常复杂的工业流程,如果说芯片设计看重的是工业软件,芯片架构技术的话,那么芯片制造就需要对半导体设备市场有很高的把控要求了。

  芯片制造过程中遇上的光刻、刻蚀、离子注入和清洗工艺等等都有对应的半导体设备负责生产。其中最受瞩目的可能就是光刻步骤对应的光刻机。

  因为国际市场的原因,导致很多人关注到ASML光刻机的供应情况,这家公司的EUV光刻机不能向大陆客户出货,原因大家都明白。虽然光刻机很重要,但也只是芯片制造过程中的一部分。

  而在其余的半导体设备领域,国产一直在努力,并取得了许多进展突破。比如至纯科技的清洗设备完成了28nm认证,还有中国电科旗下的离子注入机实现全谱系的国产化突破,可对应28nm制程。

  这些国产半导体设备的突破案例比比皆是,但也许有人表示这才28nm制程,又不是最先进的工艺。何止成熟工艺,国产半导体再次突破,这次是5nm。

  据4月7日消息显示,河南研究院研制出全自动12寸晶圆激光开槽设备,这台设备支持5nm DBG工艺,TAIKO超薄环切和激光开槽等功能。

  从介绍中大致可以了解到,这台半导体设备采用激光技术,并且支持各种类型的脉宽激光器。

  此次取得研究突破的生产团队,为国产开槽设备能够在5nm制程工艺范围内实现良好的超薄工艺处理能力,为国产半导体设备市场积累更高端,更自主的产业化优势。

  国产半导体设备市场需要不断积累这类研究成果,打造出自主可控的生产线nm工艺已经是非常高端的技术了,目前为止国产半导体设备能够涉猎到5nm工艺程度的依然有限。

  除了此次取得突破的全自动12寸晶圆激光开槽设备,也包括中微半导体公司的刻蚀机设备。更多的清洗设备,物理薄膜沉积以及光刻机还处在提升国产化率阶段,或者加速探索更高端先进的工艺技术。做到5nm的无一不是行业翘楚的企业或顶级研究机构。

  国外发展芯片集成电路已有半个世纪以上的历史,英特尔,英伟达等老牌厂商是各自CPU,GPU领域的鼻祖。

  而这些世界领先的巨头相互扶持,打造行业超前的半导体设备。比如ASML生产的EUV光刻机就是来自世界各国顶尖科技的集合,各类领先的半导体设备均出自国外供应商之手。

  不过将目光聚焦到国内,会发现也有许多半导体设备厂商不断加速,从主流领域到细分市场,几乎是全面布局,全力以赴。那么国产半导体设备市场有何潜力呢?这就需要看国产半导体设备有哪些厂商参与攻克,并且取得怎样的实际进展。

  先看外界比较关注的光刻机,上海微电子是国内唯一能生产整机光刻机的厂商,在前道和后道都有布局。前道光刻机注重光刻工艺,后道注重芯片封装。

  在前道光刻机领域上海微电子具备90nm成熟工艺量产实力,并曾传出要交付28nm浸润式光刻机的消息,但并未得到官宣。至于后道光刻机,上海微电子已经实现国内首台2.5D/3D封装光刻机的交付,是国产光刻机的一大进步。

  另外在刻蚀机领域,中微半导体是全球顶级的刻蚀设备厂商之一,并且高端刻蚀机设备已经进入到台积电、长江存储、华虹宏力等晶圆制造商的生产线。

  清洗机方面,至纯科技、北方华创、盛美半导体等国产公司均掌握对应的核心技术。其中北方华创的清洗设备已经供应中芯国际,是国内领先的清洗机设备市场核心供应商。

  这些还只是国产半导体设备市场的冰山一角,更多的供应商企业在细分零部件市场埋头研究。华卓精科、国望光学、科益虹源等等都是国内领先的光刻机零部件生产制造商。

  所以综合来看,国产半导体设备的潜力是非常大的。各个半导体设备领域都有对应的参与者。这些国产企业凝聚在一起,可以汇聚无穷的力量。

  再加上河南研究院瞄准激光开槽设备,让国产半导体设备的突破有了更鲜明的色彩。

  半导体设备是支持芯片生产的,所以不管有怎样的实际突破效果,最终的目的都是为了投入市场,实现更好的芯片制造。

  企业投入研发,推动设备上市是为了增进营收,以便未来可以持续保障收益。现在芯片制造火热,对半导体设备的采购需求不断加大。那么国产厂商该如何把握半导体设备市场机遇呢?

  或许可以从技术以及产能这两大层面入手。加强技术研发,攻克更先进的半导体设备核心技术,取得更大的优势。还有增加产能,向市场输出更多的半导体设备,获得更多的市场占有率。如此一来,何愁不能站稳市场脚跟。

  国产半导体设备再次取得突破,全自动12寸晶圆激光开槽设备研制成功,涉及5nm工艺。这是国产半导体设备的又一次突破,相信不只是现在,未来还会有更多的突破好消息接踵而至。

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